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制作可平衡气体压力的流道的方法技术
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下载制作可平衡气体压力的流道的方法的技术资料
文档序号:1323190
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本发明公开了一种制作可平衡气体压力的流道的方法。首先提供一元件晶片,并在元件晶片的正面形成多个腔体,且腔体之间未互相导通。随后在元件晶片的正面形成多条流道,且腔体通过流道而互相导通。接着将元件晶片的正面贴附于承载晶片上,且通过流道使腔体内的...
该专利属于探微科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过探微科技股份有限公司授权不得商用。
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