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一种应力层的形成方法和晶体管的形成方法，应力层的形成方法包括：提供半导体衬底；提供外延设备，包括反应腔、气体输送装置；在半导体衬底上形成应力层，应力层材料包括第一元素和第二元素，采用的反应气体包括含第一元素气体和含第二元素气体，应力层包括体...
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