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本实用新型公开一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置，包括基片与靶材，所述靶材包括上靶材与下靶材，两个靶材上下相对设置；上靶材的上部与下靶材的下部设有在两个靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；所述基片垂直设置于两个靶材的外侧；溅射过程中...该专利属于凯盛光伏材料有限公司;中国建筑材料科学研究总院;蚌埠玻璃工业设计研究院所有，仅供学习研究参考，未经过凯盛光伏材料有限公司;中国建筑材料科学研究总院;蚌埠玻璃工业设计研究院授权不得商用。