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本发明揭示了一种OPC前期对版图的处理方法。该方法包括：添加一辅助单元，将版图中的图形容纳在一起；利用辅助单元对较小单元和非重复单元进行合并；对所述辅助单元及重复单元进行分割，形成多个分割部分；分割后，重复单元中含有与辅助单元相重叠的分割部...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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