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一种并行光学线层析显微测量方法技术
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文档序号:13124964
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本发明公开了一种并行光学线层析显微测量方法,属于光学显微成像及精密测量技术领域。本发明首先利用计算得到标准平面反射镜的显微层析像场,其中I1、I2和I3分别是三幅结构光调制像场,绘制上述计算得到的显微层析像场中心点对应的轴向层析响应强度曲线...
该专利属于西安交通大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安交通大学授权不得商用。
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