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本发明公开一种研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法，该研磨垫包含具限制层的基底层。本发明也提供一种研磨装置及制造研磨垫的方法。...
该专利属于三芳化学工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三芳化学工业股份有限公司授权不得商用。

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