温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本实用新型涉及一种填料式撞击流H2S吸收设备,其设备包括一筒体,该筒体上端制有排气口,该筒体下端制有排液口,筒体内的上部设置有布液器,在筒体内的布液器下方设置有布料器,在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管,在喷气管内设置有压力雾化喷嘴,该...该专利属于天津天元伟业化工技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天津天元伟业化工技术有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本实用新型涉及一种填料式撞击流H2S吸收设备,其设备包括一筒体,该筒体上端制有排气口,该筒体下端制有排液口,筒体内的上部设置有布液器,在筒体内的布液器下方设置有布料器,在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管,在喷气管内设置有压力雾化喷嘴,该...