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一个实施例包括：反应室；基座，该基座位于反应室中并且使晶片坐置其中；和气体流动控制器，该气体流动控制器用于控制引入到反应室中的气体流动，其中，该气体流动控制器包括注射盖，该注射盖具有用于分开气体流动的多个气体出口，并且包括多个挡板，每个挡板...
该专利属于LG矽得荣株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG矽得荣株式会社授权不得商用。

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