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一种基于超声驻波场制备硅微纳结构阵列的方法技术
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文档序号:13075113
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本发明公开了一种基于超声驻波场制备硅微纳结构阵列的方法,按如下步骤:(1)、配比腐蚀液:腐蚀液由HF溶液、H2O2溶液和AgNO3溶液均匀混配而成;(2)、将步骤(1)的腐蚀液放入反应釜中,反应釜置于超声发生器形成的超声驻波场中,开启超声波...
该专利属于杭州电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过杭州电子科技大学授权不得商用。
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