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本发明提供的MOCVD设备喷淋头包括MO源通道、保护气体通道、氧源通道、观察通道、以及反应腔，MO源气体、保护气体分别通过MO源通道、保护气体通道直达反应腔内部，氧源气体通过缓冲腔分散后再通过氧源通道到达反应腔，保护气体通道设置于MO源通道...该专利属于广州市威时强光电科技发展有限公司;佛山市中山大学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过广州市威时强光电科技发展有限公司;佛山市中山大学研究院授权不得商用。