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本发明公开了一种青霉素G钠表面分子印迹聚合物的制备方法，将青霉素G钠溶于一定的溶液，所述一定的溶剂为二甲基亚砜和甲醇体积比为4:1的混合物；然后，加入功能单体搅拌，再加入交联剂、引发剂，氮气除氧，加热反应；反应结束后洗去模板分子青霉素G钠，...
该专利属于云南省农业科学院质量标准与检测技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过云南省农业科学院质量标准与检测技术研究所授权不得商用。

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