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本发明提供多图案形成方法。所述方法包含：(a)提供包含一个或多个待图案化的层的半导体衬底；(b)在所述一个或多个待图案化的层上方形成光致抗蚀剂层，其中所述光致抗蚀剂层由包含以下各者的组合物形成：包含酸不稳定基团的基质聚合物；光酸产生剂；和溶...该专利属于罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料韩国有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料韩国有限公司授权不得商用。