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本发明涉及一种双磁性隧道结的刻蚀方法，具体如下：在需要留下双磁性隧道结堆部分采用光刻法制备出所需形状的硬模板和硬模板缓冲层，接着以按照硬模板形状从顶电极开始刻蚀，需要刻蚀的部分从顶电极开始刻蚀，依次刻蚀掉顶电极、第一反铁磁层和第一钉扎层，到...
该专利属于中电海康集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中电海康集团有限公司授权不得商用。

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