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本实用新型涉及用于化学气相沉积系统的样品制备高效生长载台，属于纳米材料制备技术领域，具体涉及到通过高效生长载台来提高具有管式反应腔体的化学气相沉积系统制备样品的效率；本实用新型通过在恒温生长区域增设高效生长载台的方式来提高CVD系统中恒温生...
该专利属于中国电子科技集团公司第三十三研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第三十三研究所授权不得商用。

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