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本发明提供一种化学机械抛光(CMP)组合物，包含：(A)用作缓蚀剂的一种或多种选自苯并三唑衍生物的化合物和(B)无机颗粒、有机颗粒或其复合物或混合物。本发明还涉及某些选自苯并三唑衍生物的化合物作为缓蚀剂的用途，尤其是用于提高化学机械抛光(C...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。

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