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本发明涉及包含多种前体的无机薄膜的制备方法及用于该方法的装置，即涉及用于包含多种前体的无机薄膜的制备方法以及制备装置。所述方法包括通过交替使用源气体和反应物气体对衬底进行等离子体处理；并且使所述源气体和反应物气体在衬底的表面上反应以在所述衬...
该专利属于成均馆大学校产学协力团所有，仅供学习研究参考，未经过成均馆大学校产学协力团授权不得商用。

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