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本实用新型公开了一种真空镀膜设备以及真空镀膜的方法，该真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及导气柱，支架设置于气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，支架包括支架柱，导气柱呈中空状且在导气柱的侧壁上设置有多个第一通气孔，支架柱呈中空状且支架柱的侧壁...
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