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导电膜形成用组合物和导电膜的制造方法技术
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文档序号:12903626
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本发明的课题在于提供一种能够形成导电性优异且空洞少的导电膜的导电膜形成用组合物以及使用该组合物的导电膜的制造方法。本发明的导电膜形成用组合物含有平均粒径为1nm~10μm的铜颗粒、平均粒径为1nm~500nm的氧化铜颗粒、具有羟基的还原剂、...
该专利属于富士胶片株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士胶片株式会社授权不得商用。
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