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本发明属于口腔药物制剂技术领域，特别涉及一种多功能抗辐射防龋消炎的口腔药物制剂。其技术方案是：一种抗辐射防龋消炎口腔制剂，它包括按质量分数计，0.5％～5％的奥替普拉、0.3％～2％的重组人角质细胞生长因子、0.02％～0.2％的度米酚、0...
该专利属于中国人民解放军96617部队所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军96617部队授权不得商用。

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