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本发明公开了一种硅片亲水性检测平台，包括：载片基板，所述载片基板的正面具有凹槽，所述凹槽用于承载待测硅片，所述凹槽的底面与所述载片基板的表面平行；刻度标尺，所述刻度标尺设置于所述载片基板上，沿着所述载片基板与所述凹槽的相交线设置，用于在硅片...
该专利属于浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司授权不得商用。

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