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本发明的名称是雷射图案化隐形感测层基板。本发明是一种雷射图案化隐形感测层基板包括一基板以及至少一结构变化层。结构变化层具有多个结构变化单元共平面的设置在基板上。结构变化层是由雷射回火处理基板上的一感测层，以形成一具有一弯折的抗扰斑块图案与一...该专利属于南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司授权不得商用。