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本发明公开了一种光刻胶清洗剂及清洗方法。所述清洗剂包括甲基苯甲醇或二甲基苯甲醇，聚氧化丙烯三醇，壬基聚氧乙烯醚和有机溶剂。清洗方法为将附有光刻胶的芯片进入清洗液中，进行恒温振荡，再用甲醇进行冲洗，烘干。使用本发明的清洗剂及方法，能够彻底清洗...
该专利属于北京中科紫鑫科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京中科紫鑫科技有限责任公司授权不得商用。

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