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本发明构思提供一种用于处理基板的设备。所述设备包括壳体，所述壳体在其内具有处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑所述基板；喷嘴单元，所述喷嘴单元将溶液排放到由所述支撑单元支撑的所述基板上；以及溶液供应单元，所述溶液供应单元将所...
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