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一种适合多层膜电路制作的镍光刻腐蚀液配方及腐蚀方法，配方包括氢氟酸、硝酸和去离子水；各组成部分的体积比如下：氢氟酸：硝酸：去离子水＝(0.8-1.2)：(2.5-3.5)：2。利用本发明配方腐蚀的多层膜电路镍层在40×显微镜下观察，线条侧壁...
该专利属于西安空间无线电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过西安空间无线电技术研究所授权不得商用。

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