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本实用新型公开了一种纯离子真空电弧镀膜设备，包括阴极靶材、接地阳极、过滤器和真空腔室内设置的在其表面进行镀膜的基片，阴极靶材为石墨靶材，过滤器的管壁与+20V偏压电源相连接，接地阳极和过滤器之间设置有环形绝缘垫板，环形绝缘垫板内设置有环形的...
该专利属于安徽纯源镀膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽纯源镀膜科技有限公司授权不得商用。

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