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本实用新型公开一种基于非牛顿流体的抛光系统。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频...
该专利属于昆山纳诺新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山纳诺新材料科技有限公司授权不得商用。

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