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本发明公开了一种双光路投影曝光3D打印装置及方法，装置包括计算机、大面积投影曝光装置、精密投影曝光装置、成形装置以及用于转换曝光模式和调整精密投影曝光装置位置的高精度位移平台。大面积投影曝光装置包括紫外光源、动态掩模板、放大投影镜头、反射镜...
该专利属于西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安交通大学授权不得商用。

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