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本发明的目的在于提供涂布面几乎不产生或者完全不产生不均、具有良好外观的红外屏蔽膜的制造方法。本发明的红外屏蔽膜的制造方法包括在连续行进的基材膜上使用滑斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层～40层的工序，上述高...
该专利属于柯尼卡美能达株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过柯尼卡美能达株式会社授权不得商用。

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