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本发明涉及一种形成衬底开口的方法，所述方法包含在衬底中形成多个并排开口。紧邻并排开口中的至少一些开口在所述衬底中形成到相对于彼此不同的深度。移除横向介于所述并排开口之间的壁以形成较大开口，所述较大开口具有非垂直侧壁表面，其中在至少一个直线垂...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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