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一种化学测定装置包括亲水衬底以及从亲水衬底的第一侧延伸到亲水衬底的第二侧的一个或多个疏水结构。亲水衬底中的疏水结构形成从亲水衬底的第一侧延伸到亲水衬底的第二侧的流体屏障壁，所述流体屏障壁从第一侧和第二侧之间的垂直轴线偏离小于20°。...
该专利属于施乐公司所有，仅供学习研究参考，未经过施乐公司授权不得商用。

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