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本发明属于物理气相沉积领域,公开了一种栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置。该装置包括由电源Ⅰ供电的柱状阴极靶、由偏压电源供电的工件架，在柱状阴极靶前放置一个由电源Ⅱ供电的栅极。本发明将栅极与柱弧相结合，在提高薄膜结合力、光滑度的前提下保持了更高的...
该专利属于中国科学院兰州化学物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院兰州化学物理研究所授权不得商用。

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