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一种用于混浊样本测量的设备包括：多个光源，用于用非空间结构化光来照射混浊样本目标区域；投影系统，用于用空间结构化光来照射混浊样本目标区域；传感器，用于从混浊样本的目标区域收集光，以及处理器，用于分析由传感器捕捉的数据，以生成混浊样本的散射和...
该专利属于调节成像公司所有，仅供学习研究参考，未经过调节成像公司授权不得商用。

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