下载陶瓷薄膜低温沉积方法的技术资料

文档序号:12487276

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本发明提供一种采用原子层沉积(ALD)、纳米层沉积(NLD)和化学气相沉积(CVD)用于低温沉积碳化物、氮化物和诸如碳氮化物的混合相的陶瓷薄膜的方法。沉积化学成分使用前驱体组合物,以使该薄膜沉积工艺中基底的温度比当前沉积工艺的基底温度大幅降...
该专利属于普拉萨德·纳哈·加吉尔;彼得·约瑟夫·杜绍所有,仅供学习研究参考,未经过普拉萨德·纳哈·加吉尔;彼得·约瑟夫·杜绍授权不得商用。

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