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本公开的技术涉及可用于减少已知为波纹的可见伪影的方法和系统。特别地，本公开的技术涉及通过物理修改工件上的曝光或辐射敏感材料层的外观而产生对准标记，然后使用这些对准标记或这些标记的转印的正像或反向像在曝光写入通过之间再次对准写入坐标系，随后在...
该专利属于麦克罗尼克迈达塔有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过麦克罗尼克迈达塔有限责任公司授权不得商用。

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