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公开了一种组合薄膜制备及原位表征系统，包括：生长腔，所述生长腔中设有组合薄膜生长装置，用于在基片上生长组合薄膜；至少一个表征腔，所述表征腔中设有组合薄膜表征装置；准备腔，用于对所述基片、样品以及测试探针进行预处理；中转腔，所述中转腔同生长腔...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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