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提供一种孔的内壁面处理方法，即使要被处理的基体中设置的孔是窄而深的孔，仍能可靠地进行蚀刻和清洗。对设置有基体(100)且可减压的处理空间进行减压，其中该基体在其内部具有被施予处理液(106)的表面以及在该表面中具有开口(110)的微空腔(1...
该专利属于国立大学法人东北大学;斯泰拉化工公司所有，仅供学习研究参考，未经过国立大学法人东北大学;斯泰拉化工公司授权不得商用。

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