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本发明公开了一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法，以氯霉素为模板分子，以甲基丙烯酸为功能单体，形成主客体配合物，加入交联剂EDMA发生自由基共聚，最后用溶剂甲醇/乙酸混合液将聚合物从溶剂中沉淀出来，得到氯霉素分子印迹聚合物。其中CAP与甲基...
该专利属于徐州工程学院所有，仅供学习研究参考，未经过徐州工程学院授权不得商用。

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