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本发明公开了一种等离子体处理胡麻种子及配套栽培方法，包括：（1）等离子体处理种子，采用等离子体处理机，处理剂量为1.2-2.0A，处理3次，种子流量为1.0-1.5kg/min，处理后6-10天播种；(2)除草，播种前7-10天，喷施除草剂...
该专利属于李永青所有，仅供学习研究参考，未经过李永青授权不得商用。

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