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本发明属于功率半导体器件技术领域，具体的说涉及一种具有抗单粒子效应的VDMOS器件。本发明的主要技术方案为采用的技术方案主要为在栅极下方的外延层中设置与源极相连的第二导电类型半导体柱，产生横向电场，改变空穴的流经路径，从而避免发生寄生晶体管...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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