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本发明的电弧等离子体成膜装置包括：成膜腔室，储存作为处理对象的基板；等离子体腔室，储存靶的至少一部分，且与成膜腔室连结；以及多个中空线圈，在靶与成膜腔室之间具有至少一处弯曲部以产生连续的磁力线，被包含非磁性金属的外皮覆盖，且配置于等离子体腔...
该专利属于株式会社岛津制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社岛津制作所授权不得商用。

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