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本发明公开了电润湿显示下基板的制备方法，包括在疏水绝缘层表面进行图案化亲水改性，然后在亲水改性后的疏水绝缘层上形成像素墙的步骤，其中，图案化亲水改性的步骤包括：制备第一模板，所述第一模板上设有与像素墙位置对应的凸起；在所述第一模板的凸起表面...该专利属于华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院所有，仅供学习研究参考，未经过华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院授权不得商用。