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本发明涉及一种小兰西瓜的栽培方法，属于栽培技术领域，本发明包括以下步骤：1)将厩肥、复合肥和土壤按照1000:40-60:1-2的重量比配制成育苗基质；2)温水浸种；3)覆盖薄膜；4)调控苗床温度及湿度；5)基地施肥；6)播种45-55天后...
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