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本发明公开了一种具有超低粗糙度的Ni-Nb金属薄膜及其制备方法。将Ni、Nb金属原料合成靶材放在多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上；衬底采用硅单面抛光片，安装在基片架上，调节距离；腔体抽真空，然后充入氩气，调节腔内气压预溅射；再进行溅射；将硅单面...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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