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稀土磁铁用溅射靶及其制造方法技术
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文档序号:12279971
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本发明涉及一种稀土磁铁靶,其为以钕、铁、硼作为必要成分的稀土磁铁靶,其特征在于,平均晶粒直径为10~200μm。本发明的课题在于提供一种烧结体靶及其制造方法,该烧结体靶能够形成量产性、再现性优良且具有良好磁特性的稀土磁铁薄膜、特别是钕磁铁薄...
该专利属于吉坤日矿日石金属株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过吉坤日矿日石金属株式会社授权不得商用。
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