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本发明公开了一种快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉，它涉及石墨烯生长CVD设备技术领域。它包括有CVD管式炉，所述CVD管式炉的炉管两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室，所述真空腔室内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所...
该专利属于安徽贝意克设备技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽贝意克设备技术有限公司授权不得商用。

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