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本发明提供了一种高效率的磁控溅射设备，其中由磁体得到的接地遮蔽件布置于靶的外周，能够减少阴极与接地遮蔽件之间的不期望的放电。本发明的实施方式的溅射设备设置有：垫板(7)，垫板(7)连接到电源并具有靶安装面；磁体(8)，磁体(8)布置于垫板的...
该专利属于佳能安内华股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佳能安内华股份有限公司授权不得商用。

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