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一种局部加厚地膜制造技术
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文档序号:12132340
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本实用新型公开了一种局部加厚地膜,包括厚度为0.008±0.003mm的地膜,所述地膜两侧边加厚至0.012mm,加厚部分宽幅为80mm-120mm。本实用新型在常规地膜覆盖方式的基础上,创造性的将地膜周边加厚,这样可增加使用时被土埋压处地...
该专利属于杨林所有,仅供学习研究参考,未经过杨林授权不得商用。
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