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本发明涉及一种用于在衬底上进行垂直金属、优选地为铜电流沉积的装置，其中所述装置包括彼此平行地以垂直方式布置的至少第一装置元件及第二装置元件，其中第一装置元件包括具有多个贯通导管的至少第一阳极元件及具有多个贯通导管的至少第一载体元件，其中所述...
该专利属于德国艾托特克公司所有，仅供学习研究参考，未经过德国艾托特克公司授权不得商用。

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