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基于静态前馈补偿的抗饱和内模控制系统设计方法，用于过程工业控制系统。该方法包括控制器Q、含有饱和环节的被控对象Gp、被控对象的内部模型Gm以及三个静态补偿器K1、K2、K3；通过在原有的内模控制系统基础上进行静态前馈分析，分别就饱和现象引起...
该专利属于北京化工大学;北京国控天成科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京化工大学;北京国控天成科技有限公司授权不得商用。

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