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本发明提出了一种提高对准标记对比度的结构及其形成方法，在对准标记的周围预定间距内形成钝化孔，由于钝化孔的存在，光线会在钝化孔处进行折射和漫反射，从而避免光线直接反射出，增加对准标记和钝化孔处的对比度，有利于设备机台识别对准标记。...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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